![Fe[3]Si/CaF[2]多層膜による強磁性共鳴トンネルダイオードの作製と評価](/opac/images/cyan/bookimage-kango.png)
Fe[3]Si/CaF[2] タソウマク ニヨル キョウジセイ キョウメイ トンネル ダイオード ノ サクセイ ト ヒョウカ
眞壁健司 [著]
[つくば] : [眞壁健司], [2013]
図書等| No. | 所在 | 請求記号 | 資料ID | 資料タイプ | 状況（返却予定日） | コレクション | 備考 | 予約・取り寄せ人数 |
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1 |
DA06396-2012
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10013008243 |
本学論文 |
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2013
97, 13p ; 31cm
筑波大学博士 (工学) 学位論文・平成25年3月25日授与 (甲第6396号)
Fe[3]Si/CaF[2]の[3], [2]は下つき文字
日本
日本語 (jpn)
日本語 (jpn)
眞壁, 健司 (マカベ, ケンジ)
CAL:DA06396
