論理高集積回路に向けたニッケルシリサイド薄膜のナノ組織制御

論理高集積回路に向けたニッケルシリサイド薄膜のナノ組織制御

ロンリ コウシュウセキ カイロ ニ ムケタ ニッケルシリサイド ハクマク ノ ナノ ソシキ セイギョ

二瀬卓也 [著]

[つくば] : [二瀬卓也], [2012]

図書等

巻号情報

No. 所在 請求記号 資料ID 資料タイプ 状況(返却予定日) コレクション 備考 予約・取り寄せ人数

1

DA06033-2011

10012000118

本学論文

詳細情報

刊年

2012

形態

xi, 149p ; 30cm

注記

筑波大学博士 (工学) 学位論文・平成24年3月23日授与 (甲第6033号)

出版国

日本

標題言語

日本語 (jpn)

本文言語

日本語 (jpn)

著者情報

二瀬, 卓也 (フタセ, タクヤ)

分類

CAL:DA06033