ニュウモン フォト マスク ギジュツ : LSI FPD PWB MEMS ノ タメ ノ フォト マスク
田邉功, 竹花洋一, 法元盛久著
東京 : 工業調査会, 2006.12
図書等| No. | 所在 | 請求記号 | 資料ID | 資料タイプ | 状況（返却予定日） | コレクション | 備考 | 予約・取り寄せ人数 |
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1 |
549.7-Ta83
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10010011926 |
一般図書 |
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2006
323p, 図版[3]p : 挿図 ; 21cm
Introduction to photomask technology
フォトマスク技術 : 入門 : LSI FPD PWB MEMSのためのフォトマスク
参考文献: 各章末
日本
日本語 (jpn)
日本語 (jpn)
田辺, 功(1937-) (タナベ, イサオ)
竹花, 洋一 (タケハナ, ヨウイチ)
法元, 盛久 (ホウガ, モリヒサ)
NDC8:549.7
NDC9:549.7
4769312598
BA79886837
TRC : 06062271
