微細CMOSトランジスタの高性能化プロセスとその評価技術の研究

微細CMOSトランジスタの高性能化プロセスとその評価技術の研究

ビサイ CMOS トランジスタ ノ コウセイノウカ プロセス ト ソノ ヒョウカ ギジュツ ノ ケンキュウ

大塚文雄 [著]

[つくば] : [大塚文雄], [2009]

図書等

巻号情報

No. 所在 請求記号 資料ID 資料タイプ 状況(返却予定日) コレクション 備考 予約・取り寄せ人数

1

DA04921-2008

10009007080

本学論文

詳細情報

刊年

2009

形態

106枚 : 挿図 ; 31cm

注記

筑波大学博士 (工学) 学位論文・平成21年3月25日授与 (甲第4921号)

出版国

日本

標題言語

日本語 (jpn)

本文言語

日本語 (jpn)

著者情報

大塚, 文雄 (オオツカ, フミオ)

分類

CAL:DA04921