半導体および絶縁体へのイオン注入技術

半導体および絶縁体へのイオン注入技術

ハンドウタイ オヨビ ゼツエンタイ エノ イオン チュウニュウ ギジュツ

大吉啓司著

東京 : アイピーシー, 2003.3

図書等

巻号情報

No. 所在 請求記号 資料ID 資料タイプ 状況(返却予定日) コレクション 備考 予約・取り寄せ人数

1

549.8-O95

10008011668

一般図書

詳細情報

刊年

2003

形態

iii, 151p : 挿図 ; 27cm

出版国

日本

標題言語

日本語 (jpn)

本文言語

日本語 (jpn)

著者情報

大吉, 啓司 (オオヨシ, ケイジ)

ISBN

4901493329

NCID

BA68365763