コウシュウセキカ LSI ニオケル コウユウドウリツ ゲート ゼツエンマク ニ カンスル ケンキュウ
佐藤基之 [著]
[つくば] : [佐藤基之], [2007]
図書等| No. | 所在 | 請求記号 | 資料ID | 資料タイプ | 状況（返却予定日） | コレクション | 備考 | 予約・取り寄せ人数 |
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1 |
DA04606-2007
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10008002647 |
本学論文 |
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2007
128p : 挿図 ; 31cm
ＶＴ:高集積化LSIにおける高誘電率ゲート絶縁膜に関する研究
筑波大学博士 (工学) 学位論文・平成20年3月25日授与 (甲第4606号)
付: 参考文献
表紙・背に「2008年2月」と記載あり
日本
日本語 (jpn)
日本語 (jpn)
佐藤, 基之 (サトウ, モトユキ)
CAL:DA04606
NDC9:549.8
