原子スケールのSi薄膜とAl/Si界面の第一原理的評価

原子スケールのSi薄膜とAl/Si界面の第一原理的評価

ゲンシ スケール ノ Si ハクマク ト Al/Si カイメン ノ ダイイチ ゲンリテキ ヒョウカ

清水共 [著]

[つくば] : [清水共], [2006]

図書等

巻号情報

No. 所在 請求記号 資料ID 資料タイプ 状況(返却予定日) コレクション 備考 予約・取り寄せ人数

1

DA03920-2005

10006006539

本学論文

詳細情報

刊年

2006

形態

140p ; 31cm

別書名

原子スケールのSi薄膜とAlSi界面の第一原理的評価

注記

筑波大学博士 (工学) 学位論文・平成18年3月24日授与 (甲第3920号)

付: 参考文献

出版国

日本

標題言語

日本語 (jpn)

本文言語

日本語 (jpn)

著者情報

清水, 共 (シミズ, トモ)

分類

CAL:DA03920

NDC9:431.86