シリコン ネツサンカ ノ カイメン ソカテイ ニ カンスル リロンテキ ケンキュウ
白石賢二研究代表者
[つくば] : 白石賢二, 2004.5
図書等| No. | 所在 | 請求記号 | 資料ID | 資料タイプ | 状況（返却予定日） | コレクション | 備考 | 予約・取り寄せ人数 |
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1 |
549.8-Sh82
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10004007817 |
本学 |
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2004
1冊 ; 30cm
Theoretical studies on the basic processes of Si Thermal Oxydation
科学研究費補助金基盤研究(C)(2)研究成果報告書 ; 平成14-15年度
研究課題番号: 14550020
研究代表者: 白石賢二
日本
日本語 (jpn)
日本語 (jpn) ; 英語 (eng)
白石, 賢二 (シライシ, ケンジ)
BA68545470
KAKEN : 14550020
