半導体素子製造におけるプロセス誘起欠陥の熱処理による制御に関する研究

半導体素子製造におけるプロセス誘起欠陥の熱処理による制御に関する研究

ハンドウタイ ソシ セイゾウ ニオケル プロセス ユウキ ケッカン ノ ネツショリ ニヨル セイギョ ニ カンスル ケンキュウ

鈴木俊治 [著]

[つくば] : [鈴木俊治], [2002]

図書等

巻号情報

No. 所在 請求記号 資料ID 資料タイプ 状況(返却予定日) コレクション 備考 予約・取り寄せ人数

1

DB01875-2002

10003006727

本学論文

詳細情報

刊年

2002

形態

iii, 115p ; 31cm

注記

筑波大学博士 (工学) 学位論文・平成14年11月30日授与 (乙第1875号)

出版国

日本

標題言語

日本語 (jpn)

本文言語

日本語 (jpn)

著者情報

鈴木, 俊治 (スズキ, トシハル)

分類

CAL:DB01875